出展者技術発表会第 2 会場 / 6月3日(水)

12:00-12:30 英日 アイエスピー・ジャパン(株) Booth No. B1-1

S2-4太陽照射(紫外線、赤外線)及び温度変化ストレス(熱さ、寒さ)から肌を防御するアンチエイジング原料GP4G SP

UVAやUVB等の太陽照射が酸化ストレスや、DNA、たんぱく質損傷によって老化を引き起こす原因であることは良く知られていますが、近年、特に赤外線A波ストレスが皮膚科学で注目されています。また、温度変化ストレスも環境ストレスの一因です。厳しい環境に順応してきたユニークなプランクトンから抽出したアルテミアエキス(GP4G SP)が、様々な環境ストレスからいかに肌を防御するのかを論証します。

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